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            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

            發布時間: 2025-07-29  點擊次數: 3565次

            INVITATION

             

            第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議將于 7 月 29 日- 8 月 3 日在馬來西亞吉隆坡舉辦。我們誠摯邀請您參加并蒞臨我們的【2】號展位,與技術銷售工程師 Vincent Mazzola 和應用專家 Leandro Sacco 互動交流,體驗 VSParticle 的干法納米打印技術并了解其在氣體傳感材料研究領域的最新進展!

             

            會議時間:2025 年 7 月 29 日-8 月 3 日

            會議地點:馬來西亞吉隆坡美利亞酒店

            展位號:2

             

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

             

             

             

            ? VSP 展會亮點搶先看

             

            Part 01.  干法納米打印如何重塑傳感材料研發路徑?

             

            基于 MEMS 的金屬氧化物半導體(MOS)氣體傳感器技術相較于傳統監測方法具有顯著優勢:ppm 級靈敏度、可檢測多種目標氣體、易于微型化、可擴展性強且量程寬。然而,在靈敏度與選擇性方面,現有 MOS 技術仍難以滿足部分應用場景的需求。通過VSParticle-P1 納米打印沉積系統,可顯著提升傳感器的性能指標:一方面通過最(zui)大化比表面積提高靈敏度,另一方面通過精確調控材料組分實現選擇性優化。

             

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

            VSP-P1 納米印刷沉積系統基于火花燒蝕(Spark Ablation)與慣性沖擊打?。↖nertial Impaction)兩大核心技術,為氣體傳感器制造提供了革命性解決方案:

             

            1. 火花燒蝕:通過高電壓火花燒蝕瞬間氣化金屬電極,生成超純納米顆粒(NP),可靈活混合金屬氧化物(如SnO?、NiO)、貴金屬催化劑(如Ag)等材料,實現“按需定制”的納米多孔層(NPL)。

               

            2. 慣性沖擊打印:將納米顆粒高速沉積于傳感器基底,無需光刻或刻蝕工藝,即可實現圖案化沉積。整個過程規避了化學污染,確保材料高純度與一致性,顯著提升傳感器性能。

             

             

            Part 02.  高通量、多組分的快速金屬/氧化物氣體傳感涂層篩選

             

            在本案例中,基于金屬氧化物半導體(MOS)及金屬催化劑的納米多孔層(NPLs)通過印刷方式沉積在多傳感器陣列平臺上,并以甲苯和甲醛作為目標氣體進行測試。最多三種不同組分的 NPLs 被用作傳感層。研究從靈敏度、選擇性、響應/恢復時間及檢出限(LOD)等關鍵性能指標出發,系統分析了材料組成對氣體傳感性能的影響。

             

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

             

             

            Part 03.  納米多孔氣敏層沉積服務:快速打造高性能傳感材料

             

            為了幫助研究人員和開發團隊更高效地推進氣體傳感器的材料開發與評估,VSParticle 提供定制化的納米多孔氣敏層沉積服務,可直接在您的目標基底上構建結構可控的高性能敏感材料層。我們能為您提供的服務包括:

             

            材料定制與沉積

            1.使用VSP火花燒蝕技術(Spark Ablation)生成 1-20nm 粒徑納米顆粒

            2可選單元素材料(如Pt、Pd、Au、Ni等),也可配置多組分或摻雜體系

            3不依賴溶劑與墨水,實現無掩膜、干式打印

             

            納米結構可控構建

            1形成高比表面積、多孔連續網絡結構,優化氣體擴散路徑與活性反應位點

            2可根據需求調整沉積厚度、粒徑分布、沉積圖案/陣列設計等關鍵參數

            3提供單點、微區圖案化陣列、多位置對比測試布局

             

            下游適配與協同測試

            1可沉積在多種基底上,包括:MEMS芯片、電極結構、玻璃、硅片、陶瓷等

            2可選附加服務:低溫熱處理、導電性能測試、SEM形貌觀察、光譜吸收等

             

            VSParticle邀您相約吉隆坡第二屆人工智能傳感器與換能器國際會議

             

             

            如果您是正在尋找更高效氣敏材料開發工具的研究人員、關注傳感器陣列批量工藝與性能一致性的工程專家、尋求低溫兼容性與復雜結構沉積解決方案的產業用戶,歡迎來 VSParticle 的展位與我們面對面探討,一起探索干法納米打印技術在AI氣體傳感中的無限可能!

             

             

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